Автоэмиссионный растровый электронный микроскоп с блоком нанолитографии Raith 150 TWO

(Raith, Германия, www.raith.com)

2

Технические характеристики

Установка электронно-лучевой нанолитографии на основе автоэмиссионного растрового электронного микроскопа Raith 150 TWO предназначена как для электронной растровой микроскопии высокого разрешения (не хуже 2 – 5 нм), так и для проведения нанолитографии с размерами получаемых элементов не хуже 15-20 нм.

В состав установки входят следующие основные блоки и узлы: электронно-оптическая колонна с электростатической системой отклонения луча; объективная линза, детектор вторичных электронов; камера образцов с системой загрузки и столиком; вакуумная система; системы обеспечения.

Диапазон увеличений – от 12× до 900 000×. Разрешающая способность электронной колонны 1,5 – 5 нм в зависимости от ускоряющего напряжения. Минимальный размер получаемого элемента поверхности при электронно-лучевой нанолитографии не хуже 15-20 нм. Размер пластин до 4 дюймов (100 мм), с возможностью расширения держателя пластин до 8 дюймов (200 мм).

Метод. Растровая электронная микроскопия. Электронно-лучевая нанолитография, в том числе для нано – и СВЧ электроники с топологической нормой до 50 нм.

Область применения: нано- и микроэлектроника, СВЧ электроника, сенсоры.