Малогабаритная вакуумная установка магнетронного нанесения МВУ ТМ Магна

(НИИ точного машиностроения, Россия, www.niitm.ru)

12

Технические характеристики

Установка предназначена для учебных целей.

Последовательная обработка подложек в одном технологическом цикле: 2 шт – Ø150 мм; 4 шт – Ø76 мм, Ø100 мм; 8 шт – Ø60 мм, 60×48 мм. Распыление дисковой мишени в плазме магнетронного разряда. Подготовка поверхности подложек – нагрев и ионная очистка в плазме ВЧ разряда. Автоматизированное управление от персонального компьютера. Малогабаритная безмасляная вакуумная система откачки. Автономная система водяного охлаждения.

Область применения. Установка предназначена для нанесения пленок металлов (Al, Ni, Fe, W и др.) и диэлектриков (SiO2, Si3N4 и др.) методом магнетронного распыления.