Система для нанесения тонкопленочных покрытий TFS 200-187

(Beneq, Финляндия, www.beneq.com)

7

Технические характеристики

Методы. Атомно-слоевое осаждение Установка предназначена для проведения процессов быстрого термического отжига пластин до температуры 1200°С в инертной среде. В процессе отжига осуществляется продувка камеры инертным газом. Термообработка производится с помощью галогенных ламп.

Область применения. Установка применяется в микроэлектронной промышленности для высокотемпературного постимплантационного отжига, отжига металлических контактов и пленок и роста оксидных пленок; микроэлектроника, нанотехнологии.