Установки плазменной очистки YES-G500

(Yield Engineering Systems, Inc., США, yieldengineering.com)

10

Технические характеристики

Установки серии YES обеспечивают низкочастотную плазменную очистку (40 кГц). Плазма генерируется между двумя активными электродами и заземленными электродами или стенками рабочей камеры. Ламинарный поток рабочего газа в камере обеспечивает отличную стабильность и равномерность плазмы, и отсутствие мертвых зон обработки.

  • Совместимость с чистыми помещениями: класс 10.
  • Рабочая температура: 145°C максимум.
  • Внутренние размеры рабочей камеры: 457×457×209 мм.
  • Количество входов рабочих газов: 3 (4-й опционально).
  • Мощность плазмы: 100-500 Вт.

Область применения. Подготовка поверхности для разварки, удаление загрязнений, остатков флюса или стерилизация поверхностей, обеспечение адгезии между двумя поверхностями, создание гидрофильных поверхностей, изменяя поверхностное натяжение, улучшение характеристик биосовместимости.