[fullwidth background_color=”” background_image=”” background_parallax=”none” enable_mobile=”no” parallax_speed=”0.3″ background_repeat=”no-repeat” background_position=”left top” video_url=”” video_aspect_ratio=”16:9″ video_webm=”” video_mp4=”” video_ogv=”” video_preview_image=”” overlay_color=”” overlay_opacity=”0.5″ video_mute=”yes” video_loop=”yes” fade=”no” border_size=”0px” border_color=”” border_style=”solid” padding_top=”50px” padding_bottom=”0px” padding_left=”0″ padding_right=”0″ hundred_percent=”no” equal_height_columns=”no” hide_on_mobile=”no” menu_anchor=”” class=”” id=””][fusion_text]

Автоэмиссионный растровый электронный микроскоп с блоком нанолитографии Raith 150 TWO

(Raith, Германия, www.raith.com)[/fusion_text][separator style_type=”single” top_margin=”0″ bottom_margin=”0″ sep_color=”#2b71de” border_size=”5px” icon=”” icon_circle=”” icon_circle_color=”” width=”” alignment=”center” class=”” id=””][one_full last=”yes” spacing=”no” center_content=”no” hide_on_mobile=”no” background_color=”#ffffff” background_image=”” background_repeat=”no-repeat” background_position=”left top” hover_type=”none” link=”” border_position=”all” border_size=”1px” border_color=”#e2e2e2″ border_style=”solid” padding=”30px 30px 30px 30px” margin_top=”” margin_bottom=”” animation_type=”0″ animation_direction=”down” animation_speed=”0.1″ animation_offset=”” class=”green-border rounded-border” id=””][fusion_text]2

Технические характеристики

Установка электронно-лучевой нанолитографии на основе автоэмиссионного растрового электронного микроскопа Raith 150 TWO предназначена как для электронной растровой микроскопии высокого разрешения (не хуже 2 – 5 нм), так и для проведения нанолитографии с размерами получаемых элементов не хуже 15-20 нм.

В состав установки входят следующие основные блоки и узлы: электронно-оптическая колонна с электростатической системой отклонения луча; объективная линза, детектор вторичных электронов; камера образцов с системой загрузки и столиком; вакуумная система; системы обеспечения.

Диапазон увеличений – от 12× до 900 000×. Разрешающая способность электронной колонны 1,5 – 5 нм в зависимости от ускоряющего напряжения. Минимальный размер получаемого элемента поверхности при электронно-лучевой нанолитографии не хуже 15-20 нм. Размер пластин до 4 дюймов (100 мм), с возможностью расширения держателя пластин до 8 дюймов (200 мм).

Метод. Растровая электронная микроскопия. Электронно-лучевая нанолитография, в том числе для нано – и СВЧ электроники с топологической нормой до 50 нм.

Область применения: нано- и микроэлектроника, СВЧ электроника, сенсоры.

 

[/fusion_text][/one_full][/fullwidth]