[fullwidth background_color=”” background_image=”” background_parallax=”none” enable_mobile=”no” parallax_speed=”0.3″ background_repeat=”no-repeat” background_position=”left top” video_url=”” video_aspect_ratio=”16:9″ video_webm=”” video_mp4=”” video_ogv=”” video_preview_image=”” overlay_color=”” overlay_opacity=”0.5″ video_mute=”yes” video_loop=”yes” fade=”no” border_size=”0px” border_color=”” border_style=”solid” padding_top=”50px” padding_bottom=”0px” padding_left=”0″ padding_right=”0″ hundred_percent=”no” equal_height_columns=”no” hide_on_mobile=”no” menu_anchor=”” class=”” id=””][fusion_text]

Комбинированная система нанесения и задубливания резиста Sawatec SM180 + НР150

(Sawatec, Швейцария, www.sawatec.com)[/fusion_text][separator style_type=”single” top_margin=”0″ bottom_margin=”0″ sep_color=”#2b71de” border_size=”5px” icon=”” icon_circle=”” icon_circle_color=”” width=”” alignment=”center” class=”” id=””][one_full last=”yes” spacing=”no” center_content=”no” hide_on_mobile=”no” background_color=”#ffffff” background_image=”” background_repeat=”no-repeat” background_position=”left top” hover_type=”none” link=”” border_position=”all” border_size=”1px” border_color=”#e2e2e2″ border_style=”solid” padding=”30px 30px 30px 30px” margin_top=”” margin_bottom=”” animation_type=”0″ animation_direction=”down” animation_speed=”0.1″ animation_offset=”” class=”green-border rounded-border” id=””][fusion_text]

Технические характеристики

Система состоит из лабораторной центрифуги (SM180) и температурного столика (НР150). Характеристики SM180: Вставляемый модуль для сушки позволяет обрабатывать подложки до 150 мм диаметром; возможен как вакуумный зажим подложки, так и механический; до 10 пар установок скорость/время; имеет скорость 10 000 об/мин, укомплектована крышкой и чашей из полиоксиметилена (пластика). Скорость вращения 0-10 000 об/мин, точность вращения ± 1 на 6000 об/мин. Ускорение 80-500 рад/с².

Характеристики НР150: Максимальная температура нагрева 250°С; загрузка подложки вручную; цифровые установки и отображение температуры; фиксация подложки вакуумом в центре столика; встроенный вентилятор обеспечивает обдув воздухом и вывод паров во внешнюю вытяжку; три винта сверху позволяют выровнять термостолик по уровню; крышка с уплотнениями; опционально – напуск азота под крышку.

Методы. Нанесение резиста методом Hot plate.

Область применения. Система предназначена для нанесения резистов с помощью центрифугирования и нагревания пластин и подложек с высокой равномерностью при температуре до 150 или до 250°С, для сушки фоторезиста и эпоксидных покрытий.[/fusion_text][/one_full][/fullwidth]