[fullwidth background_color=”” background_image=”” background_parallax=”none” enable_mobile=”no” parallax_speed=”0.3″ background_repeat=”no-repeat” background_position=”left top” video_url=”” video_aspect_ratio=”16:9″ video_webm=”” video_mp4=”” video_ogv=”” video_preview_image=”” overlay_color=”” overlay_opacity=”0.5″ video_mute=”yes” video_loop=”yes” fade=”no” border_size=”0px” border_color=”” border_style=”solid” padding_top=”50px” padding_bottom=”0px” padding_left=”0″ padding_right=”0″ hundred_percent=”no” equal_height_columns=”no” hide_on_mobile=”no” menu_anchor=”” class=”” id=””][fusion_text]

Системы осаждения тонких пленок PVD 250, PVD 75

(Kurt J. Lesker Company, США, www.lesker.com)[/fusion_text][separator style_type=”single” top_margin=”0″ bottom_margin=”0″ sep_color=”#2b71de” border_size=”5px” icon=”” icon_circle=”” icon_circle_color=”” width=”” alignment=”center” class=”” id=””][one_full last=”yes” spacing=”no” center_content=”no” hide_on_mobile=”no” background_color=”#ffffff” background_image=”” background_repeat=”no-repeat” background_position=”left top” hover_type=”none” link=”” border_position=”all” border_size=”1px” border_color=”#e2e2e2″ border_style=”solid” padding=”30px 30px 30px 30px” margin_top=”” margin_bottom=”” animation_type=”0″ animation_direction=”down” animation_speed=”0.1″ animation_offset=”” class=”green-border rounded-border” id=””][fusion_text]

Технические характеристики

Основные особенности

Источник (электронно-лучевой испаритель) с водяным охлаждением; водоохлаждаемый или нагреваемый и электрически изолированный подложкодержатель; подогрев подложек до 350°С; система вращения изделий для улучшения равномерности напыления; очистка изделий перед напылением – ультразвуковая или ионным пучком; контроль толщины (кварцевый резонатор в стандартной комплектации); управление процессом с помощью промышленного ПК и дисплея с сенсорным управлением; программное обеспечение позволяет программировать систему на необходимые алгоритмы напыления и создавать архивную базу данных, содержащую историю проводимых на установке процессов.

Стандартная спецификация

4″×24″ D-образная вакуумная камера из нержавеющей стали;6-ти позиционный электронно-лучевой испаритель с источником питания (5 кВт), с экранированием и водяным охлаждением. Возможность попеременного напыления 6-ти материалов; охлаждаемый держатель изделий размером 4″ (100 мм) (скорость вращения – до 20 об/мин, экраны). Система откачки: создает остаточное давление около 10^-7 торр, 500 л/сек турбомолекулярный насос и безмасляный механический насос 35 м³/сек; контроль толщины при помощи трех кварцевых резонаторов; специализированное программное обеспечение; полная автоматизация процесса напыления;

Методы. Установка позволяет наносить металлы двумя способами: метод термического испарения; метод электронно-лучевого испарения.

Область применения. Установка предназначена для осаждения тонких металлических покрытий из паровой фазы на поверхность изделий из полупроводниковых; кварцевых, стеклянных и прочих диэлектрических материалов в вакууме. Применяется в цикле изготовления микроэлектронных компонентов, интегральных микросхем и подобных устройств микроэлектронной промышленности.[/fusion_text][/one_full][/fullwidth]